小型離子濺射儀參數(shù)：
1.腔體尺寸：石英玻璃，直徑150mm*高度130mm
2.供電規(guī)格：AC220V，200w
3.適用靶材：貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
4.樣品臺可調(diào)高度：20~50mm
5.樣品臺尺寸：直徑55mm
6.工作真空度：1~10Pa
7.氣體路數(shù)：單路
8.氣體流量：手動調(diào)節(jié)
9.控制：觸屏控制
10.外形尺寸：260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
11.重量：10KG
12.真空泵：VRD-8
小型離子濺射儀簡介：
1、人性化設(shè)計(jì)，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。
2、儀器小巧，不占空間，適用于實(shí)驗(yàn)室、科研院所等。
3、鍍膜均勻細(xì)密，適用于多種靶材。
4、樣品臺可以快速調(diào)節(jié)，方便取放樣品。
5、儀器性能可靠，設(shè)有多重安全保護(hù)機(jī)制。
小型離子濺射儀是一種物理氣相沉積技術(shù)，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面，將材料濺射出來并沉積在底片上，從而制備出薄膜。相比于傳統(tǒng)的濺射技術(shù)，小型離子濺射儀具有以下優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備小巧、易于操作、比較經(jīng)濟(jì)、沉積溫度較低、沉積速率高、薄膜質(zhì)量較好等優(yōu)點(diǎn)。因此，它已廣泛應(yīng)用于微納米材料和表面科學(xué)等領(lǐng)域。
小型離子濺射儀是一種重要的表面處理設(shè)備，它通過將高能離子注入目標(biāo)材料表面來改變其物理和化學(xué)性質(zhì)。其主要特點(diǎn)包括：
1. 尺寸小巧：通常具有較小的尺寸和體積，可以在較小的實(shí)驗(yàn)室中使用，方便實(shí)驗(yàn)者們進(jìn)行科研工作。
2. 高效性能：具有較高的功率密度和離子能量，可以快速地改變目標(biāo)材料的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)。
3. 穩(wěn)定性強(qiáng)：采用先進(jìn)的控制技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的材料制造，具有良好的穩(wěn)定性和可靠性。
4. 操作簡單：使用方便，操作簡單，即使對于新手也可以快速上手。
5. 廣泛應(yīng)用：不僅可以應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域，而且可以應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、電子技術(shù)、能源領(lǐng)域等各個(gè)領(lǐng)域。
在使用小型離子濺射儀時(shí)，需要注意一些問題，如真空度、離子束流控制、目標(biāo)材料的選擇和后續(xù)處理等問題。只有合理地運(yùn)用小型離子濺射儀可以達(dá)到更好的實(shí)驗(yàn)效果和更高的科研成果。
產(chǎn)品型號：
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